PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機介紹:
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數(shù)進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機特點:
1. 桌面型,普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護。
2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠,可選配硅片專用托盤。
3.內(nèi)置雙層氣浴電極,有效提高清洗效率。配有節(jié)流閥,防止真空泵油霧回流??蛇x配耐用電極,降低長時間使用后的腔體污染。
4.配置200W/13.56MHz等離子發(fā)生器。兼顧物理作用和化學(xué)作用。
5.具備前后吹掃功能,保證樣品處理潔凈度,可配置獨立吹掃氣路。
6.可選配電極間距可調(diào),對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機參數(shù):
小型等離子去膠機應(yīng)用: