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隨著納米技術(shù)、微電子學(xué)以及材料科學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展,對(duì)于表面處理技術(shù)的要求日益提高。等離子清洗作為一種高效且環(huán)保的技術(shù),在這些領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。本文將從清潔效率...
[查看詳情]小型等離子清洗機(jī)的用途:小型等離子清洗機(jī)是一種利用等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行處理的設(shè)備。它主要應(yīng)用于電子制造、生物醫(yī)學(xué)工程、光學(xué)工業(yè)等領(lǐng)域,具體用途包括但不限于:表面清潔:去除材料表面的有機(jī)污染物、氧化物或微小顆粒,以準(zhǔn)備進(jìn)一步的加工步驟。提高粘附性:通過(guò)改變材料表面的化學(xué)特性來(lái)增強(qiáng)涂層、油漆、膠水等物質(zhì)與基材之間的結(jié)合力。表面活化:改善塑料、玻璃、金屬等材料表面的濕潤(rùn)性和親水性,使得后續(xù)工藝如印刷、涂裝更為有效??涛g:用于精細(xì)圖案的刻蝕,在半導(dǎo)體制造和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)中尤...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性;
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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